高エンタルピーおよび高安定性のプラズマを含むプラズマシステムおよび方法

• 收藏
• 分享

专利权人:

ウラジミール・イー・ベラシュチェンコ

发明人:

ウラジミール・イー・ベラシュチェンコ

申请号：

JP20140561145

公开号：

JP6262670(B2)

申请日:

2013.03.08

申请国别(地区):

日本

年份:

2018

代理人:

摘要：

The present disclosure generally relates to systems, apparatus and methods of plasma spraying and plasma treatment of materials based on high specific energy molecular plasma gases that may be used to generate a selected plasma. The present disclosure is also relates to the design of plasma torches and plasma systems to optimize such methods.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/