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ナノパターン化表面を含む基材およびその調製方法
- 专利权人:
- イルミナ インコーポレイテッド
- 发明人:
- ボーウェン， エム． シェーン,ベンカテサン， バラ ムラリ,バーナード， スティーブン エム．
- 申请号：
- JP20160532111
- 公开号：
- JP2017504183(A)
- 申请日:
- 2014.12.17
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 機能化可能な層、複数のマイクロスケールパターンもしくはナノスケールパターンまたはそれらの組合せを含むポリマー層および裏当て層を含む基材、ならびに室温ＵＶナノエンボス加工プロセスを使用することによるその調製を開示する。この基材は、ロール・ツー・ロール連続プロセスによって調製され得る。この基材は、生物学的分子分析のためのフローセル、ナノ流体デバイスまたはマイクロ流体デバイスとして使用され得る。 前記ポリマー層のマイクロスケールパターンまたはナノスケールパターンが、チャネル、トレンチ、ウェル、ポストまたはそれらの組合せを含み得る。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
