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荷電粒子ビーム照射システムおよび荷電粒子ビームの出射方法
专利权人:
HITACHI LTD
发明人:
NISHIUCHI HIDEAKI,西内 秀晶,TADOKORO MASAHIRO,田所 昌宏,EBINA FUTARO,えび名 風太郎
申请号:
JP2015046617
公开号:
JP2016167393A
申请日:
2015.03.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide stable beam emission control capable of enhancing the dose rate when control of emission of ion beams from a synchrotron is performed.SOLUTION: In a particle beam irradiation system comprising a synchrotron 13 for accelerating and emitting an ion beam and an irradiation device 30 for irradiation of the ion beam emitted from the synchrotron 13, the synchrotron 13 has an emission high frequency electrode 16a to which a high-frequency voltage is applied, and uses as the high-frequency voltage to be applied to the emission high frequency electrode 16a, a high frequency voltage obtained by performing frequency modulation on a carrier wave signal which is controlled according to the energy of the ion beam emitted from the synchrotron 13.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2016,JPO&INPIT【課題】シンクロトロンからイオンビームの出射制御を実施する際、安定でかつ、線量率を向上できるビーム出射制御を提供する。【解決手段】イオンビームを加速して出射するシンクロトロン13と、シンクロトロン13から出射されたイオンビームを照射する照射装置30を有する粒子線照射システムにおいて、シンクロトロン13は高周波電圧を印加する出射用高周波電極16aを備え、当該出射用高周波電極16aに印加する高周波電圧として、シンクロトロン13から出射するイオンビームのエネルギーに応じて制御する搬送波信号を周波数変調した高周波電圧を用いることを特徴とする粒子線照射システムによって、上記課題を解決する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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