The generation of the current ripple of the outgoing beam due to the high frequency voltage applied to the extraction high frequency electrode which increases the amplitude of the betatron oscillation of the circulating ion beam can be suppressed when implementing the extraction control of the ion beam from the synchrotron, In order to improve the dose rate, the extraction control device 20 uses, as a high-frequency voltage to be applied to the extraction high-frequency electrode 16 a, a beam circulating in the synchrotron 13 so as not to be emitted out of the synchrotron, within a range not exceeding the stability limit A high frequency voltage composed of the first high frequency voltage Fs for increasing the vibration amplitude and the second high frequency voltage Fe for emitting the beam from the synchrotron is applied.シンクロトロンからイオンビームの出射制御を実施する際、周回しているイオンビームのベータトロン振動振幅を増大させる出射用高周波電極に印加する高周波電圧に起因する出射ビームの電流リップルの発生を抑制し、線量率を向上するため、出射制御装置20は、出射用高周波電極16aに印加する高周波電圧として、シンクロトロン13内を周回するビームをシンクロトロン外に出射されないように、安定限界を超えない範囲で振動振幅を増大させるための第1高周波電圧Fsと、シンクロトロンからビームを出射させるための第2高周波電圧Feとで構成される高周波電圧を印加する。
