化学机械研磨浆液组合物及其使用方法
- 专利权人:
- 长兴化学工业股份有限公司
- 发明人:
- 李宗和,刘文政,简佑玲,陈书政,陈建清,陈彦良,霍登彦,杨博名
- 申请号：
- CN01122791.5
- 公开号：
- CN1398944A
- 申请日:
- 2001.07.25
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2003
- 代理人:
- 过晓东
- 摘要：
- 本发明是提供一种用于半导体加工中的化学机械研磨浆液组合物，其包含70至99.5重量％的水性介质；0.1至25重量％的研磨颗粒；0.01至1重量％作为腐蚀抑制剂的三唑化物；及0.001至1重量％的水溶性氯子源。本发明研磨浆液组合物中所含水溶液氯离子，可于研磨过程中，磨穿因回火处理而于铜薄膜表面所产生的致密层，以及降低研磨后的铜残留量。本发明的化学机械研磨浆液组合物可进一步包含氧化剂。本发明亦关于该组合物用于研磨半导体晶圆表面的方法。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
