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Plasma irradiation equipment
专利权人:
積水化学工業株式会社;SEKISUI CHEM CO LTD
发明人:
長原 悠,安宅 元晴,井上 毅,NAGAHARA YU,ATAKA MOTOHARU,INOUE TAKESHI
申请号:
JP2018176583
公开号:
JP2020047530A
申请日:
2018.09.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
An object of the present invention is to provide a plasma irradiation apparatus that suppresses generation of a spark between a first terminal and a second terminal when the first terminal and the second terminal are attached and detached. A plasma irradiation apparatus has a plasma generator provided with a first terminal, and generates plasma generated by the plasma generator based on power applied to the first terminal and active gas generated by the plasma. And a second terminal 25 detachable from the first terminal, and the first terminal and the second terminal in the first contact state P11 where the first terminal and the second terminal are in contact with each other. Power is applied between the first terminal and the second terminal when the first terminal and the second terminal switch between a first separated state and a first contact state that are separated from each other; And a supply unit 60 that does not apply power to the power supply. [Selection diagram] FIG.【課題】第1端子と第2端子とを着脱する際に第1端子と第2端子との間に火花が発生するのを抑制したプラズマ照射装置を提供する。【解決手段】プラズマ照射装置1は、第1端子46が設けられたプラズマ発生部を有し、第1端子に印加された電力に基づいてプラズマ発生部にて発生したプラズマ及びプラズマによって生じる活性ガスの少なくとも一方を吐出する照射器具と、第1端子に着脱可能な第2端子25と、第1端子及び第2端子が互いに接触している第1接触状態P11のときに第1端子と第2端子との間に電力を印加し、第1端子及び第2端子が、互いに離間している第1離間状態と第1接触状態との間で切り替わるときに第1端子と第2端子との間に電力を印加しない供給部60と、を備える。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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