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剂量分布运算装置、粒子射线治疗装置及剂量分布运算方法
专利权人:
株式会社日立制作所
发明人:
坂本裕介,西泽博志,林真照,东哲史,山本和男,平野有希子,前田奈津子,服部绘理,本田泰三,岸井保人
申请号:
CN201580081260.9
公开号:
CN107708803B
申请日:
2015.01.07
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明的目的在于,无需具有高位置分辨率的剂量检测器,且能实现既排除了静态不确定性又排除了动态不确定性的患者QA。本发明的剂量分布运算装置(10)的特征在于,包括:在对治疗对象的替代物即模体(21)照射粒子射束(20)的确认照射中,利用测定装置测定粒子射线治疗装置(50)所产生的粒子射束(20)的粒子射束信息,对该测定粒子射束信息进行存储的射束信息存储部(测定能量存储部(14)、测定电荷存储部(12)、测定射束中心轴存储部(13));及基于测定粒子射束信息(测定能量(E)、测定射束量(测定电荷数(Q))、测定射束中心轴位置(Px、Py))运算照射剂量分布(合计剂量分布(Di))的合计剂量运算部(15)。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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