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DEVICE FOR MONITORING GAS CONCENTRATION
专利权人:
LINDE AKTIENGESELLSCHAFT
发明人:
WEISZL, Gunther,TATAREK, Andrew Richard Thomas,ROMAKO Christian
申请号:
GBGB2011/001203
公开号:
WO2012/020228A1
申请日:
2011.08.11
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
A monitoring apparatus for monitoring the relative flow rates of first and second gases that are to be mixed comprises a first flow-monitoring, laminar flow element (6) in a first gas flow path for detecting a differential first gas pressure thereacross and a second flow- monitoring, laminar flow element (7) in a second gas flow path for detecting a differential second gas pressure thereacross. A comparator device (5) compares the differential pressures and is operable to generate a response in dependence on said comparison.La présente invention concerne un appareil de surveillance destiné à la surveillance des débits relatifs de premier et de second gaz destinés à être mélangés. Ledit appareil comprend un premier élément de flux laminaire assurant la surveillance du débit (6) dans une première voie de passage de gaz, afin de détecter une première pression de gaz différentielle à travers ledit passage. Ledit appareil comprend en outre un second élément de flux laminaire assurant la surveillance du débit (7) dans une seconde voie de passage de gaz, afin de détecter une seconde pression de gaz différentielle à travers ledit passage. Un dispositif comparateur (5) compare les pressions différentielles et permet de provoquer une réponse en fonction de ladite comparaison.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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