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磁束照射装置
专利权人:
DAI ICHI HIGH FREQUENCY CO LTD
发明人:
HIRAYAMA KOTARO,平 山 鋼太郎,MIYATA SHUICHIRO,宮 田 周一郎
申请号:
JP2013196100
公开号:
JP2016187364A
申请日:
2013.09.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic flux irradiation device that can easily change an irradiation pattern of magnetic flux depending on a positional relation between the magnetic flux irradiation device and an object to be irradiated.SOLUTION: A magnetic flux irradiation device comprises a cylindrical coil and a magnetic core inserted into the coil in parallel to an axis of the coil, and radiates magnetic flux from an end part on one side of the magnetic core by supplying electric current to the coil. When the magnetic core is inserted into the coil, a relative position of the magnetic core in an axis direction of the coil with respect to the coil can be adjusted by a desired amount.SELECTED DRAWING: Figure 1COPYRIGHT: (C)2017,JPO&INPIT【課題】磁束照射装置と照射対象物との位置関係に応じて、磁束の照射パターンを容易に変更することができる磁束照射装置を提供する。【解決手段】筒状のコイルと、前記コイルの内部に当該コイルの軸線と平行に挿入された磁心と、を備え、前記コイルに電流を供給することによって前記磁心の一方側の端部から磁束を照射する磁束照射装置であって、前記コイルの内部に前記磁心が挿入された状態において、前記コイルに対する当該コイルの軸線方向の前記磁心の相対位置が所望量だけ調整可能となっていることを特徴とする磁束照射装置である。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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