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PROCÉDÉS DE PASTEURISATION ET/OU DE STÉRILISATION DE PRODUIT PARTICULAIRE
专利权人:
BÜHLER AG
发明人:
MENESES, Nicolas,HERSCHE, Martin,CURRIE, Alasdair,SCHÖNENBERGER, Niklaus,SCHEIWILLER, Thomas
申请号:
EPEP2017/070843
公开号:
WO2018/036900A1
申请日:
2017.08.17
申请国别(地区):
EP
年份:
2018
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft Verfahren zum Pasteurisieren und/oder Sterilisieren von partikelförmigem Gut (1), enthaltend die folgenden Schritte: a) Erzeugen eines Elektronenstrahls (5), b) Pasteurisieren und/oder Sterilisieren des Guts (1) mittels des Elektronenstrahls (5) in einer Behandlungszone (3), wobei die Elektronen des Elektronenstrahl (5) eine Energie aufweisen, die im Bereich von 80 keV bis 300 keV, bevorzugt von 140 keV bis 280 keV, besonders bevorzugt von 180 keV bis 260 keV liegt, das Gut (1) dem Elektronenstrahl (5) für eine Behandlungszeit ausgesetzt wird, die im Bereich von 5 ms bis 25 ms liegt und der Elektronenstrahl (5) in der Behandlungszone (3) eine mittlere Elektronenstromdichte aufweist, die im Bereich von 1015 s-1⋅ cm-2 bis 2,77⋅1015 s-1⋅ cm-2 liegt.The invention relates to methods for pasteurizing and/or sterilizing particulate goods (1), containing the following steps: a) producing an electron beam (5), b) pasteurizing and/or sterilizing the goods (1) by means of the electron beam (5) in a treatment zone (3), wherein the electrons of the electron beam (5) have an energy that lies in the range of 80 keV to 300 keV, preferably from 140 keV to 280 keV, particularly preferably from 180 keV to 260 keV, the goods (1) being exposed to the electron beam (5) for a treatment time which lies in the range from 5 ms to 25 ms and the electron beam (5) has a mean electron current density in the treatment zone (3) which lies in the range of 1015 s-1⋅cm-2 to 2.77⋅1015 s-1⋅cm-2.L'invention concerne des procédés de pasteurisation et/ou de stérilisation de produit particulaire (1), comportant les étapes consistant à a) produire un faisceau d'électrons (5), b) pasteuriser et/ou stériliser le produit (1) au moyen du faisceau d'électrons (5) dans une zone de traitement (3), les électrons du faisceau d'électrons (5) présentant une énergie comprise entre 80 keV et 300 keV, de préférence entre 140 keV et 280 keV, de façon plus préférée entre 180 keV et 260 keV, le produi
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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