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헹굼 및 마사지 장치
专利权人:
发明人:
KWON, YEON SIKKR,권연식
申请号:
KR1020130103903
公开号:
KR1014205750000B1
申请日:
2013.08.30
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
Disclosed is a face rinse and massage device. Disclosed in an embodiment is a face rinse and massage device. The face rinse and massage device comprises a bubble generating pad arranged inside a solution and generating a first bubble inside the solution by receiving air a washing pad comprising a sound wave generating part arranged inside the solution and converting a first electrical energy applied from the outside into a vibration energy to generate a second bubble inside the solution and a body for supplying the air and the first electrical energy to the bubble generating pad and the sound wave generating part respectively. The sound wave generating part coverts the first electrical energy into the vibration energy using at least one ultrasonic vibration.COPYRIGHT KIPO 2014헹굼 및 마사지 장치가 개시된다. 일 실시 예에 있어서, 헹굼 및 마사지 장치가 개시된다. 상기 헹굼 및 마사지 장치는 용액 내부에 배치되며 공기를 제공받아 상기 용액 내부에 제1기포를 생성하는 기포 발생 패드와 상기 용액 내부에 배치되며 외부로부터 인가되는 제1전기에너지를 진동에너지로 변환하여 상기 용액 내부에 제2기포를 생성하는 음파발생부를 포함하는 세안패드 및 상기 기포 발생 패드 및 상기 음파발생부에 각각 상기 공기 및 상기 제1전기에너지를 제공하는 본체를 포함한다. 상기 음파발생부는 적어도 하나의 초음파 진동을 이용하여 상기 제1전기에너지를 상기 진동에너지로 변환한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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