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原子層堆積中における化学物質の制御された分離および送出により低欠陥処理を可能にするシステムおよび方法
- 专利权人:
- ラム リサーチ コーポレーションＬＡＭ ＲＥＳＥＡＲＣＨ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
- 发明人:
- ラメッシュ・チャンドラセカーラン,ジェニファー・オラフリン,サーングルト・サングプルン,シャンカー・スワミナタン,フランク・パスクァーレ,クロエ・バルダッセローニ,エイドリアン・ラボイエ
- 申请号：
- JP20160135523
- 公开号：
- JP2017036493(A)
- 申请日:
- 2016.07.08
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】反応性ガスのガス供給ライン中でオーバーラップ、高圧でガスのオンオフの切り換えによるガスライン中に及び／又は下流のガス分配装置内で圧力過渡現象の低減する方法の提供。【解決手段】ガス送出システムは、第１のガス源と通じる入口を含む第１のバルブ９０を含む。第２のバルブ９４の第１の入口は、第１のバルブ９０の出口と通じ、第２のバルブ９４の第２の入口は、第２のガス源と通じ、第３のバルブ９８の入口は、第３のガス源と通じる。コネクタ１０５は、第１のガスチャネル、および第２のガスチャネルを規定するシリンダを含む。シリンダおよび第１のガスチャネルは、共同でシリンダの外側表面と第１のガスチャネルの内側表面との間に流路を規定する。流路は、第３のバルブの出口および第２のガスチャネルの第１の端部
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
