ホウ素原子を含む化学的活性種の発生方法、及び表面処理方法
- 专利权人:
- 国立大学法人静岡大学
- 发明人:
- 梅本 宏信
- 申请号：
- JP20150208012
- 公开号：
- JP2017079314(A)
- 申请日:
- 2015.10.22
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】安価かつ安全な、ホウ素原子を含む化学的活性種の発生方法、及び当該化学的活性種を用いた半導体基板の表面処理方法を提供すること。【解決手段】ボラザン及びボラジンの少なくとも一種を含むガスを加熱された金属体に接触させ、該金属体をホウ素化する工程と、前記ガスの供給を絶った状態で金属体を加熱し化学的活性種ＢＨｘ（ｘは０〜３の整数）を発生させる工程と、を備える、ホウ素原子を含む化学的活性種の発生方法、並びに発生した当該化学的活性種をシリコンからなる被処理基板に供給する、表面処理方法。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
