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遠紅外線貼布結構
专利权人:
CHU; KAI-CHENG
发明人:
CHU, KAI-CHENG,朱凯正,朱凱正
申请号:
TW108203253
公开号:
TWM584182U
申请日:
2019.03.18
申请国别(地区):
TW
年份:
2019
代理人:
摘要:
The present invention provides a far-infrared patch structure comprising: a first far-infrared material layer containing far-infrared powder and silicone, wherein the far-infrared powder is uniformly distributed in the silicone; and disposed on one side of the first far-infrared material layer The base layer. The far-infrared applicator structure of the present invention can increase the emission of far-infrared energy to effectively promote blood circulation, and the first far-infrared material layer is made of silicone material, thereby having skin-friendly properties and reducing allergies. Comfortably apply to the skin.本創作提供一種遠紅外線貼布結構,其包含:含有遠紅外線粉末及矽膠的第一遠紅外線材料層,其中遠紅外線粉末均勻分布於矽膠中;以及設置於該第一遠紅外線材料層的一面上的基底層。藉由本創作的遠紅外線貼布結構可增加遠紅外線能量的放射,以有效地促進血液循環,同時第一遠紅外線材料層以矽膠材料所製,因而對肌膚具有親膚性,可降低過敏並可舒適地服貼於肌膚上。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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