The invention relates to a method for producing a surface structure comprising the following steps: - providing a substrate having a surface to be treated - irradiating a portion of the surface with a beam of a pulsed ultra violet laser projecting a spot on the surface wherein the pulsed UV laser is having a pulse length of 5 to 10 picoseconds, and a pulse frequency of 200 to 300 kiloherz, wherein the energy density per pulse ranges from 0.003 to 0.5 micro joules per square micrometer - moving the spot over the surface to be treated - repeating the irradiation a number of times. The invention further relates to a surface structure wherein the structure comprises an open submicron structure having randomly placed protrusions of 0.1 to 10 micrometer in diameter and a roughness obtained by these protrusions of plus and minus 0.5 micron to plus minus 15 micrometer, in direction (z) perpendicular to the surface.Linvention concerne un procédé de production dune structure de surface, consistant : - à obtenir un substrat présentant une surface à traiter - à irradier une partie de la surface au moyen dun faisceau de laser ultra-violet pulsé projetant un spot sur la surface, le laser présentant une durée dimpulsion comprise entre 5 et 10 picosecondes et une fréquence dimpulsion comprise entre 200 et 300 kilohertz, la densité dénergie par impulsion allant de 0,003 à 0,5 micro-joules par micromètre carré - à déplacer le spot sur la surface à traiter - à répéter plusieurs fois lirradiation. Linvention concerne également une structure de surface comprenant une structure submicronique comportant des éléments saillants de 0,1 à 10 micromètres de diamètre placés de façon aléatoire et présentant une rugosité conférée par ces éléments saillants comprise entre plus ou moins 0,5 micron et plus ou moins 15 micromètres, dans le sens (z) perpendiculaire à la surface.
