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荷電粒子線治療装置
专利权人:
SUMITOMO HEAVY IND LTD
发明人:
KAMIGUCHI NAGAAKI,上口 長昭
申请号:
JP2016105513
公开号:
JP2017209372A
申请日:
2016.05.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam therapy apparatus capable of shortening a time required for a charged particle beam therapy.SOLUTION: An irradiation part 2 includes a scan electromagnet 6 for scanning a charged particle beam B at a predetermined layer (a predetermined position) in a depth direction of the irradiation of the charged particle beam B. A control part 7 controls the irradiation part 2 so that after the irradiation part 2 irradiates and scans the charged particle beam B with a first current value, it irradiates and scans the charged particle beam B with a second current value different from the first current value. By this configuration, the irradiation part 2 can set the lower current value of the first current value and the second current value and irradiate the charged particle beam B onto a region of a low dose. On the other hand, the irradiation part 2 can set the higher current value of the first current value and the second current value, and irradiate the charged particle beam B onto a region of a high dose. Thus, the charged particle beam can be irradiated with a current value suitable for the dose in each region.SELECTED DRAWING: Figure 2COPYRIGHT: (C)2018,JPO&INPIT【課題】荷電粒子線治療に要する時間を短縮することができる荷電粒子線治療装置を提供する。【解決手段】照射部2は、荷電粒子線Bの照射の深さ方向における所定の層(所定の位置)で、荷電粒子線Bを走査させる走査電磁石6を備える。また、制御部7は、第1の電流値にて荷電粒子線Bを照射して走査した後、第1の電流値と異なる第2の電流値にて荷電粒子線Bを照射して走査するように照射部2を制御する。このような構成により、照射部2は、線量が低い領域に対しては、第1の電流値及び第2の電流値のうちの低い方の電流値を設定して荷電粒子線Bを照射することができる。一方、照射部2は、線量が高い領域に対しては、第1の電流値及び第2の電流値のうちの高い方の電流値を設定して荷電粒子線Bを照射することができる。このように、各領域に対して線量に合わせた電流値にて荷電粒子線を照射することができる。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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