The imaging system 300 includes a radiation source 308 that emits radiation that travels in the direction of the examination region 306 during a scan, and a detector array 316 located across the examination region and opposite the radiation source for detection. The instrument array detects radiation across the examination area during the scan and generates a signal representative of the detected radiation. A beam shaper 318 located between the radiation source and the examination region defines a flux intensity profile of the radiation beam across the examination region. The beam shaper includes a plurality of X-ray attenuating elements 326 that attenuate X-rays incident thereon, and the plurality of X-ray attenuating elements are interleaved in a plurality of material-free regions that allow the X-rays to pass through without being attenuated. Has been. The X-ray transmittance increases as the distance from the center region of the beam shaper becomes closer to the end region of the beam shaper. Beam shaper moving means 328 translates the beam shaper during at least one acquisition interval of the scan.イメージングシステム３００は、スキャンの間、検査領域３０６の方向に進む放射線を放出する放射線源３０８と、検査領域をはさんで放射線源の反対側に位置する検出器アレイ３１６と、を有し、検出器アレイは、スキャンの間、検査領域を横切る放射線を検出し、検出した放射線を表す信号を生成する。放射線源と検査領域との間に位置するビーム成形器３１８は、検査領域を横切る放射線ビームのフラックス強度プロファイルを規定する。ビーム成形器は、その上に入射するＸ線を減衰させる複数のＸ線減衰素子３２６を有し、複数のＸ線減衰素子は、Ｘ線を減衰されないまま通過させる複数の材料フリーな領域でインタリーブされている。Ｘ線の透過率は、ビーム成形器の端部領域と比べてビーム成形器の中央領域に近いほど大きくなる。ビーム成形器移動手段３２８は、スキャンの少なくとも１の取得間隔の間、ビーム成形器を並進させる。
