An aqueous polishing composition comprising (A) at least one water-soluble or water-dispersible compound selected from the group consisting of N-substituted diazenium dioxides and N-hydroxy-diazenium oxide salts and (B) at least one type of abrasive particles the use of the compounds (A) for manufacturing electrical, mechanical and optical devices and a process for polishing substrate materials for electrical, mechanical and optical devices making use of the aqueous polishing composition.Linvention concerne une composition comprenant (A) au moins un composé hydrosoluble ou dispersible dans leau choisi dans lensemble constitué de dioxydes de diazénium N-substitués et de sels doxyde de N-hydroxy-diazénium et (B) au moins un type de particules abrasives lutilisation des composés (A) pour la fabrication de dispositifs électriques, mécaniques et optiques et un procédé de polissage de matériaux substrats pour des dispositifs électriques, mécaniques et optiques employant la composition de polissage aqueuse.
