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ホルミル基含有多孔質担体、それを用いた吸着体、およびそれらの製造方法
专利权人:
株式会社カネカ
发明人:
河井 義和,川原 直美
申请号:
JP2009516366
公开号:
JP5508850B2
申请日:
2008.05.30
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Following formula invention, (1) [Formula 1] (-CH (OH) -CH (OH) R 1 is - represents an atomic group forming a six-membered ring or a 5-membered ring together with) was cleaved to a group represented by the following general formula (2 ) [2] of formyl group-containing porous carrier having a spacer structure represented by the formula, its manufacturing method, and adsorbent obtained by binding a ligand to the carrier. In accordance with the present invention, it is possible to provide an adsorbent and adsorption-body carriers, less leakage of the ligand and a high strength.本発明は、下記一般式(1)【化1】(R1は、-CH(OH)-CH(OH)-と一緒になって5員環または6員環をなす原子団を表す)で表される基を開裂させた、下記一般式(2)【化2】で表される構造をスペーサーに有するホルミル基含有多孔質担体、その製造方法、および該担体にリガンドを結合させた吸着体に関する。本発明によれば、高強度でかつリガンドの漏れの少ない吸着体用担体、ならびに吸着体を提供することができる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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