The composition for light stability make-up which includes the anti-sunburn medicine, from details offer the composition for make-up which includes the anti-sunburn medicine of the dibenzoylmethane. Because the dibenzoylmethane and this derivative relatively are sensitive vis-a-vis the ultraviolet ray, it is known that it disassembles quickly under operating of the sunlight. This disassembly reaction, is promoted under existing of the anti-sunburn medicine, especially p methoxy cinnamic acid and this derivative for ultraviolet ray B. As for these inventors, surprisingly, the dibenzoylmethane or this derivative and p methoxy cinnamic acid or the composition for make-up which includes this derivative, discovered the fact that it is stabilized by aliphatic alcoholic ethoxy rate and incorporating the combination of poly- alkylene glycol.日焼け止め剤を含む光安定性化粧用組成物、より詳しくはジベンゾイルメタンの日焼け止め剤を含む化粧用組成物を提供する。ジベンゾイルメタンとこの誘導体は、紫外線に対して比較的敏感なので、日光の作用下で迅速に分解することが知られている。この分解反応は、紫外線Bに対する日焼け止め剤、特にp-メトキシケイ皮酸とこの誘導体の存在下で促進される。本発明者らは、驚くべきことには、ジベンゾイルメタンもしくはこの誘導体およびp-メトキシケイ皮酸もしくはこの誘導体を含む化粧用組成物が、脂肪族アルコールエトキシレートおよびポリアルキレングリコールの組合せを組み入れることによって安定化されることを発見した。
