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プラズマ処置システム
专利权人:
OLYMPUS CORPORATION
发明人:
ISHIKAWA, Manabu,石川 学,KIMURA, Shuichi,木村 修一,WATANABE, Koichiro,渡辺 宏一郎
申请号:
JPJP2015/059754
公开号:
WO2015/156156A1
申请日:
2015.03.27
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要:
In this plasma treatment system, a coefficient (K) serving as the minimum amount of water required to generate plasma is provided, said coefficient being the ratio of the supply amount of physiological saline to the suction amount of the physiological saline. Furthermore, in the plasma treatment system, the required supply amount and suction amount of the physiological saline are set from the coefficient (K) obtained on the basis of the high-frequency-energy output level, and plasma treatment is executed.Linvention concerne, dans ce système de traitement au plasma, un coefficient (K) servant de quantité minimale deau nécessaire pour générer un plasma, ledit coefficient étant le rapport de la quantité dalimentation de solution saline physiologique à la quantité daspiration de la solution saline physiologique. En outre, dans le système de traitement au plasma, la quantité dalimentation requise et la quantité daspiration requise de la solution saline physiologique sont définies à partir du coefficient (K) obtenu sur la base du niveau de sortie dénergie à haute fréquence, et un traitement au plasma est exécuté.プラズマ処置システムは、生理食塩水の供給量及び吸引量との比であり、プラズマ発生のために必要最小限の水量となる係数Kを有し、高周波エネルギの出力レベルに基づき得られた係数Kから、必要とする生理食塩水の供給量及び吸引量が設定され、ブラズマ処置を実施する。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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