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Method of treating target space
专利权人:
SUMITOMO CHEMICAL COMPANY; LIMITED
发明人:
ELLYANA NJATAWIDJAJA,TIMOTHY C. HADINGHAM
申请号:
BR112013018746
公开号:
BR112013018746B1
申请日:
2011.12.05
申请国别(地区):
BR
年份:
2019
代理人:
摘要:
Method of treating target space and liquid particles this invention refers to an arbitrary active constituent that is permanently sprayed in order to treat a target space. A method of this invention, for the treatment of a target space, a composition in an effective quantity, the composition containing (i) a solvent and (i I) an electrolyte that has a pK of no less than -10, but no more than 7, which is a constant PK of dissociation from Water, the composition of particles of liquid being sprayed into a form of mist of liquid particles,Having (i) an average particle diameter not less than 100 nm but no more than 10 one, and (i I) an average load number of at least +40 but no more than +40.000.método de tratamento do espaço-alvo e partículas de líquido a presente invenção refere-se a um constituinte ativo arbitrário que é pulverizado de forma estável, de modo a tratar um espaço-alvo. um método da presente invenção, para o tratamento de um espaço-alvo, uma composição em uma quantidade eficaz, a composição contendo (i) um solvente e (ii) um eletrólito que tem um pk de não inferior a - 10, mas não mais do que 7, o que é um pk constante de dissociação em relação à água, sendo a composição de partículas de líquido pulverizado em uma forma de névoa de partículas de líquido, que têm (i) um diâmetro médio de partícula não inferior a 100 nm mas não mais do que 10 um, e (ii) um número de carga média de pelo menos +40 mas não mais do que +40.000.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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