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粒子線治療システム
专利权人:
株式会社日立製作所
发明人:
齋藤 一義,櫻畠 広明
申请号:
JP2007288002
公开号:
JP4988516B2
申请日:
2007.11.06
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To produce irradiation beams suitable for high-precision particle beam therapy such as a spot scanning method or the like.SOLUTION: The particle beam therapy system includes a synchrotron which accelerates beams of charged particles to a desired energy level and permits outgoing of the beams of charged particles exceeding the stability limit, an irradiation device which irradiates an object with the beams of charged particles, a beam transport system which conducts the beams of charged particles outgoing from the synchrotron to the irradiation device, and a control unit which works in such a way as to remove part of the beams of charged particles circling in the synchrotron and allow the rest of the circling beams of charged particles to outgo from the synchrotron to be transported to the irradiation device.COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT【課題】スポットスキャニング法などの高精度な粒子線治療に好適な照射ビームを実現する。【解決手段】上記課題を達成するための粒子線治療システムは、荷電粒子ビームを所定のエネルギーまで加速し、安定限界を越えた前記荷電粒子ビームを出射するシンクロトロンと、前記荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、前記シンクロトロンから出射した前記荷電粒子ビームを前記照射装置に輸送するビーム輸送系と、前記シンクロトロンを周回する前記荷電粒子ビームの一部を除去した後、周回する他の前記荷電粒子ビームを前記シンクロトロンから出射して前記照射装置に輸送するように制御する制御装置を有する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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