Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc.
发明人:
Guo, Yi,Mosley, David,Thorsen, David L.
申请号：
DE20171009721
公开号：
DE102017009721(A1)
申请日:
2017.10.18
申请国别(地区):
德国
年份:
2018
代理人:
摘要：
Die vorliegende Erfindung stellt wässrige chemisch-mechanische Planarisierungs (CMP)-Polierzusammensetzungen mit einer hervorragenden Wärmealterungs- und Lagerstabilität in der Form von Konzentraten bereit, die ein Gemisch aus einer Verbindung, die zwei quaternäre Ammoniumgruppen enthält, wie z.B. Hexabutyl-C-C-alkandiammoniumdihydroxide oder Salze davon, vorzugsweise N,N,N,N',N',N'Hexabutyl-1,4-butandiammoniumdihydroxid (HBBAH), und Aminosilangruppe-enthaltenden Siliziumoxidteilchen in einer Menge von 1 bis 30 Gew.-% oder von 15 bis 22 Gew.-% als Feststoffe auf der Basis des Gesamtgewichts der Zusammensetzung umfassen, wobei die Zusammensetzung einen pH-Wert im Bereich von 3 bis 5, vorzugsweise von 3,5 bis 4,5 aufweist, wobei die Zusammensetzung gegen eine sichtbare Ausfällung oder Sedimentation bei einem Feststoffgehalt von 15 Gew.-% nach dem Wärmealtern bei einer Temperatur von 45 °C für mindestens 6 Tage stabil ist.
