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PROCÉDÉ D'AJUSTEMENT DE L'UNIFORMITÉ D'UN CHAMP MAGNÉTIQUE, PROGRAMME D'AJUSTEMENT DE L'UNIFORMITÉ D'UN CHAMP MAGNÉTIQUE, ET DISPOSITIF D'AJUSTEMENT DE L'UNIFORMITÉ D'UN CHAMP MAGNÉTIQUE
专利权人:
LTD.;HITACHI, LTD.;株式会社日立製作所;HITACHI
发明人:
SAKAKIBARA,Kenji,榊原 健二,FUJIKAWA,Takuya,藤川 拓也,ABE,Mitsushi,阿部 充志,HANADA,Hikaru,花田 光,榊原 健二,藤川 拓也,阿部 充志,花田 光
申请号:
JPJP2016/052259
公开号:
WO2016/132832A1
申请日:
2016.01.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
In order to achieve a high magnetic field uniformity even if there is a limit to the amount of magnetic pieces that can be arranged in each position in a shim tray, the distribution of a static magnetic field generated by a static magnetic field generating device is measured, a magnetic field error between the static magnetic field distribution and a target magnetic field is calculated, and the magnetic field uniformities that can be achieved when magnetic pieces are arranged in one or more of a plurality of locations in the shim tray are each calculated while the target magnetic field is varied within a prescribed magnetic field range. A target magnetic field with which the amounts of the magnetic pieces in each position in the shim tray are at most equal to a prescribed upper limit, and with which the magnetic field uniformity that can be achieved is at most equal to a prescribed value is selected, and magnetic pieces are arranged in the shim tray in accordance with the arrangement and amounts of the magnetic pieces corresponding to said target magnetic field.Afin d'obtenir une grande uniformité de champ magnétique même si il y a une limite à la quantité de pièces magnétiques qui peuvent être agencées dans chaque position dans un plateau de compensation, la distribution d'un champ magnétique statique généré par un dispositif de génération de champ magnétique statique est mesurée, une erreur de champ magnétique entre la distribution de champ magnétique statique et un champ magnétique cible est calculée, et chacune des uniformités de champ magnétique qui peuvent être obtenues lorsque les pièces magnétiques sont agencées à un ou plusieurs d'une pluralité d'emplacements dans le plateau de compensation est calculée tandis que le champ magnétique cible est amené à varier à l'intérieur d'une plage de champ magnétique spécifiée. Un champ magnétique cible avec lequel les quantités de pièces magnétiques à chaque position dans le plateau de compensation sont au plus égales à
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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