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PLASMA GENERATING APPARATUS AND PLASMA GENERATING METHOD
专利权人:
SAMSUNG ELECTRONICS CO LTD;三星電子株式会社
发明人:
TAKENOSHITA KAZUTOSHI,竹之下 一利,YAMADA YUKITAKA,山田 幸香,MIYAMOTO MAKOTO,宮本 誠,YUGE MASAO,弓削 政郎,KUMAGAI YUKI,熊谷 悠紀
申请号:
JP2011052233
公开号:
JP2012187225A
申请日:
2011.03.09
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To increase amount of active species and to hardly make dew formation or moisture attachment be generated on a dielectric layer.SOLUTION: A plasma generating apparatus includes a pair of electrodes, wherein a dielectric layer is arranged on at least one of surfaces of the electrodes facing each other, plasma discharge occurs as a predetermined voltage is applied to the electrodes, and a coating film is arranged on a surface of the dielectric layer.【課題】活性種の生成量を増やすとともに誘電体膜に結露や水分付着が起こりにくくする。【解決手段】対向面の少なくとも一方に誘電体膜を設けた一対の電極を有し、それら電極間に所定電圧が印加されてプラズマ放電するものにおいて、前記誘電体膜の表面にコーティング層が設けられている。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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