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SYSTÈME DE TRANSPORT DE FAISCEAU, ET DISPOSITIF DE RADIOTHÉRAPIE À PARTICULES
专利权人:
MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION;三菱電機株式会社
发明人:
HANAKAWA Kazushi,花川 和之,SUGAHARA Kengo,菅原 賢悟,ODAWARA Shuhei,小田原 周平,花川 和之,菅原 賢悟,小田原 周平
申请号:
JPJP2013/068981
公开号:
WO2015/004772A1
申请日:
2013.07.11
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
The objective of the present invention is to provide a beam transport system which is capable of enabling chromatic aberration of a beam at an irradiation position of the beam to be nearly zero even when the beam is emitted from a small synchrotron. According to this beam transport system (4), an optical parameter calculation device (17) calculates a starting point momentum dispersion function which is a momentum dispersion function (η, η') of a charged particle beam (31) at a design starting point (S) of the beam transport system (4) set on a beam orbit of an accelerator (3) on the basis of a beam time variation related quantity which is a time variation amount of a beam position or a beam diameter in a beam profile monitor (11) calculated by a beam analysis device (14), and calculates an optical parameter in which the starting point momentum dispersion function and an original condition at an irradiation position (T) at which profile data was detected are initial conditions.L'invention a pour objectif d'obtenir un système de transport de faisceau permettant de réduire sensiblement à zéro l'aberration chromatique d'un faisceau en une position d'irradiation d'un faisceau, y compris lorsque le faisceau est émis en sortie par un synchrotron de petite taille. Le système (4) de transport de faisceau de l'invention, est caractéristique en ce qu'un dispositif (17) de calcul de paramètres optiques calcule une fonction de répartition de quantité de mouvement de point de départ consistant en une fonction de répartition de quantité de mouvement (η, η') d'un faisceau (31) de particules chargées à un point de départ de conception (S) du système (4) de transport de faisceau établi sur la trajectoire de faisceau d'un accélérateur (3), sur la base d'une quantité de variations dans le temps de la position du faisceau, ou d'une quantité relative aux variations de faisceau dans le temps telle que le rayon du faisceau, au niveau d'un écran (11) pour profile de faisceau, et calculées p
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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