您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

Diffraction grating, diffraction grating manufacturing method, grating unit, and X-ray imaging apparatus
专利权人:
コニカミノルタ株式会社
发明人:
横山 光
申请号:
JP2014532759
公开号:
JPWO2014034033A1
申请日:
2013.08.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2016
代理人:
摘要:
In the diffraction grating, the diffraction grating manufacturing method, the grating unit, and the X-ray imaging apparatus of the present invention, the grating region is formed on one main surface of the substrate, and the groove is formed on the other main surface facing the one main surface. Is.本発明の回折格子、この回折格子の製造方法、格子ユニットおよびX線撮像装置は、格子領域を基材の一方主面に形成し、前記一方主面に対向する他方主面に溝部を形成したものである。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充