您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

PLASMA PROCESSING APPARATUS CONTROL METHOD OF PLASMA PROCESSING APPARATUS AND STORAGE MEDIUM
专利权人:
도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人:
사토 료,사사키 요시히코,도조 도시히로
申请号:
KR20160072202
公开号:
KR101829535(B1)
申请日:
2016.06.10
申请国别(地区):
韩国
年份:
2018
代理人:
摘要:
(과제) 감각적 또는 경험적인 처리 조건의 설정에 의존하는 일 없이 창 부재의 파손을 회피하는 것이 가능한 플라즈마 처리 장치를 제공한다. (해결 수단) 플라즈마 처리 장치(11)의 제어 장치(100)는, 기판 G에 대한 플라즈마 처리의 레시피의 입력을 받고, 받은 레시피로 플라즈마 처리를 실행했을 때에 처리 공간 S와 유도 결합 안테나(50)의 사이에 배치된 창 부재(22)에 포함되는 유전체에 파손이 생기는지 여부를, 그 레시피로 플라즈마 처리를 반복 실행하여 창 부재(22)의 온도가 평형 상태가 되었을 때의 창 부재(22)에 설정된 복수의 온도 예측점에서의 예측 도달 온도의 차이에 근거하여 판정하고, 창 부재(22)에 파손이 생긴다고 판정한 경우에 받은 레시피를 기억부(102)에 등록하지 않고, 창 부재(22)에 파손이 생기지 않는다고 판정한 경우에 기억부(102)에 레시피를 등록하
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充