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ZIRCONIUM LABELING METHOD
专利权人:
JFE ENGINEERING CORP;JFEエンジニアリング株式会社
发明人:
IMURA RYOTA,井村 亮太
申请号:
JP2017244482
公开号:
JP2019112312A
申请日:
2017.12.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To suppress the generation of nonbonding radioactive zirconium and increase the radiochemical yield of radioactive zirconium.SOLUTION: Provided is a zirconium labeling method by which, in a reaction solution containing a tracer molecule bonded with a chelating agent, radioactive zirconium, and oxalic acid ions, the radioactive zirconium is bonded to the chelating agent to label the radioactive zirconium with the tracer molecule, in which method a hydrogen ion concentration [H] and an oxalic acid ion concentration [CO] are determined such that α is 0.95 or more in a formula (1) defined by an equilibrium constant Kin a reaction between the radioactive zirconium and the chelating agent, an equilibrium constant Kin a reaction between the radioactive zirconium and the oxalic acid ions, the hydrogen icon concentration [H] in the reaction solution, a chelating agent concentration [HL] in the reaction solution, and the oxalic acid ion concentration [CO].SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】非結合放射性ジルコニウムの発生を抑制し、放射性ジルコニウムの放射化学的収率を向上すること。【解決手段】キレート剤が結合したトレーサ分子と放射性ジルコニウムとシュウ酸イオンとを含む反応溶液内において、キレート剤に放射性ジルコニウムを結合させて、トレーサ分子に放射性ジルコニウムを標識させるジルコニウムの標識方法であって、放射性ジルコニウムとキレート剤との反応における平衡定数K1、放射性ジルコニウムとシュウ酸イオンとの反応における平衡定数K2、反応溶液における水素イオンの濃度[H+]、反応溶液におけるキレート剤の濃度[H3L]、および反応溶液におけるシュウ酸イオンの濃度[C2O42-]によって定義される式(1)におけるαが、0.95以上になるように、水素イオンの濃度[H+]、およびシュウ酸イオンの濃度[C2O42-]を決定する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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