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COMPOSITION POUR SONDES D'ONDES ACOUSTIQUES, RÉSINE DE SILICIUM POUR SONDES D'ONDES ACOUSTIQUES L'UTILISANT, SONDE D'ONDES ACOUSTIQUES, SONDE ULTRASONIQUE, DISPOSITIF DE MESURE D'ONDES ACOUSTIQUES, DISPOSITIF DE DIAGNOSTIC ULTRASONIQUE, DISPOSITIF DE MESURE D'ONDES PHOTOACOUSTIQUES ET ENDOSCOPE ULTRASONIQUE
专利权人:
FUJIFILM CORPORATION;富士フイルム株式会社
发明人:
NAKAI, Yoshihiro,中井 義博,NAGAI, Takayasu,永井 貴康,OSAWA, Atsushi,大澤 敦,中井 義博,永井 貴康,大澤 敦
申请号:
JPJP2016/068964
公开号:
WO2017/002746A1
申请日:
2016.06.27
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
A composition for acoustic wave probes, which contains a polysiloxane mixture containing at least a polysiloxane having a vinyl group and a phenyl group, a polysiloxane having two or more Si-H groups in each molecule chain, and zinc oxide; a silicone resin for acoustic wave probes; an acoustic wave probe; an acoustic wave measurement device; an ultrasonic diagnostic device; an ultrasonic probe; a photoacoustic wave measurement device; and an ultrasonic endoscope.Une composition de sondes à ondes acoustiques, qui contient un mélange de polysiloxane contenant au moins un polysiloxane ayant un groupe vinyle et un groupe phényle, un polysiloxane ayant deux ou plusieurs groupes Si-H dans chaque chaîne de molécule, et de l'oxyde de zinc; une résine de silicone pour sondes d'ondes acoustiques; une sonde à ondes acoustiques; un dispositif de mesure d'ondes acoustiques; un dispositif de diagnostic ultrasonique; une sonde ultrasonique; un dispositif de mesure d'ondes photoacoustiques; et un endoscope ultrasonique.ビニル基とフェニル基とを有するポリシロキサン、分子鎖中に2個以上のSi-H基を有するポリシロキサン、および酸化亜鉛を少なくとも含むポリシロキサン混合物を含有する音響波プローブ用組成物、音響波プローブ用シリコーン樹脂、音響波プローブ、音響波測定装置、超音波診断装置、超音波プローブ、光音響波測定装置及び超音波内視鏡。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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