您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

COMPOSITION DE SONDE À ONDES ACOUSTIQUES, SONDE À ONDES ACOUSTIQUES EN RÉSINE DE SILICONE, SONDE À ONDES ACOUSTIQUES, SONDE ULTRASONIQUE, APPAREIL DE MESURE D'ONDES ACOUSTIQUES, APPAREIL DE DIAGNOSTIQUE À ULTRASONS, APPAREIL DE MESURE D'ONDES PHOTOACOUSTIQUES, ET ENDOSCOPE À ULTRASONS
专利权人:
FUJIFILM Corporation;Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
发明人:
申请号:
EP18854989.3
公开号:
EP3684078A1
申请日:
2018.09.07
申请国别(地区):
EP
年份:
2020
代理人:
摘要:
A composition for an acoustic wave probe, containing the following ingredients (A) to (D): (A) a linear polysiloxane having a vinyl group; (B) a linear polysiloxane having two or more Si-H groups in a molecular chain; (C) a polysiloxane resin; and (D) surface-treated silica particles having an average primary particle diameter more than 16 nm and less than 100 nm, as well as, a silicone resin for an acoustic wave probe, an acoustic wave probe, an ultrasound probe, an acoustic wave measurement apparatus, an ultrasound diagnostic apparatus, a photoacoustic wave measurement apparatus, and an ultrasound endoscope, using the composition for an acoustic wave probe.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关专利

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充