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化粧料
专利权人:
DAITO KASEI KOGYO KK
发明人:
ODA YAYOI,小田 弥生
申请号:
JP2013273949
公开号:
JP2015124220A
申请日:
2013.12.26
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cosmetic that is excellent in all of concealability, adhesion to a skin, and light diffusion to shade off skin irregularities.SOLUTION: A cosmetic contains a hollow particle comprising an acrylic acid alkyl-styrene copolymer, more preferably, a hollow particle having its glass transition temperature Tg of 80°C-120°C, an average particle diameter of 0.5-5 microns, and a hollow rate of 40-60%.COPYRIGHT: (C)2015,JPO&INPIT【課題】隠蔽性、肌への付着性、肌の凹凸をぼかす光拡散性の全ての面において優れた化粧料を提供する。【解決手段】本発明は、アクリル酸アルキル・スチレン共重合体からなる中空粒子、より好ましくは、そのガラス転移温度Tgが、80℃~120℃であり、平均粒子径が0.5~5ミクロン、中空率が40~60%である中空粒子を配合する化粧料。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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