基材の被膜形成方法
- 专利权人:
- 関西ペイント株式会社
- 发明人:
- 澤崎 恵介,松島 直人,植野 成人
- 申请号：
- JP20140533299
- 公开号：
- JPWO2014129649(A1)
- 申请日:
- 2014.02.25
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- プラスチック等の熱変形し易い基材に対しても適性を有し、簡便で生産性に優れ、また、機能性の持続性にも優れた、基材の表面を改質して機能性を付与するための被膜形成方法を提供することを課題とする。イソシアネート基含有不飽和化合物によるプライマー層を形成し、ついで機能性付与基含有不飽和化合物及び光重合開始剤を含有する機能性付与層を形成した後、活性エネルギー線を照射することを特徴とする被膜形成方法により前記課題を解決する。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
