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被膜付き基材の製造装置および製造方法
- 专利权人:
- リバストン工業株式会社
- 发明人:
- 内田 新,石川 哲也,石川 幸一
- 申请号：
- JP20150202532
- 公开号：
- JP2017075350(A)
- 申请日:
- 2015.10.14
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】ＳｉＣ等の酸化しやすい粉体原料（易酸化粉体原料）を用いて非酸化物からなる被膜（非酸化物被膜）を基材の表面に形成することができる、被膜付き基材の製造装置の提供。【解決手段】基材の表面へ向って発生しているプラズマジェットへ易酸化粉体原料を供給することで、前記基材の表面に非酸化物被膜を形成するための被膜付き基材の製造装置であって、前記プラズマジェットによって基材の表面に吹き付けられる前記易酸化粉体原料およびそれに由来する物質が外気と触れることなく基材の表面に到達させることができる雰囲気ガス制御手段を有することを特徴とする、被膜付き基材の製造装置。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
