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METHODS FOR THE VAPOR PHASE DEPOSITION OF POLYMER THIN FILMS
专利权人:
MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
发明人:
PAXSON, Adam, T.,BORRELLI, David, C.,VARANASI, Kripa, K.,GLEASON, Karen, K.
申请号:
USUS2016/015658
公开号:
WO2016/123485A1
申请日:
2016.01.29
申请国别(地区):
WO
年份:
2016
代理人:
摘要:
Disclosed are methods for forming thin polymeric films on a surface of an article by deposition from the vapor phase. In certain embodiments, the method comprises depositing the polymeric film in situ inside a space or enclosure contained within the article. In other embodiments, the method comprises depositing a film from vapor phase by thermal degradation of an initiator precursor without the need for an external filament.Linvention concerne des procédés de formation de minces films polymères sur la surface dun article par dépôt à partir de la phase vapeur. Dans certains modes de réalisation, le procédé consiste à déposer le film polymère in situ à lintérieur dun espace ou dune enceinte située à lintérieur de larticle. Dans dautres modes de réalisation, le procédé comprend le dépôt dun film en phase vapeur par dégradation thermique dun précurseur dinitiateur sans avoir à recourir à un filament externe.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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