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光触媒反応装置
专利权人:
コウェー カンパニー リミテッド
发明人:
イル,ジョン-ヒョップ,ユン,ヒョン-ジン,イ,デイヴィッド ミンジェ,ユン,ソン-ジン
申请号:
JP2013543096
公开号:
JP2014500797A
申请日:
2011.12.07
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Wherein the nonwoven fabric UV light source emitting ultraviolet rays, is placed so as to surround the periphery of the ultraviolet light, the photocatalyst is applied, is formed between the nonwoven fabric and the ultraviolet light source, the photocatalytic reaction device according to the invention, contamination I is characterized in that the reaction channel purification action is performed by the photocatalytic reaction fluid is is advanced is formed.本発明による光触媒反応装置は、紫外線を放出する紫外線光源、前記紫外線光源の周辺を囲むように設置され、光触媒が塗布された不織布を含み、前記紫外線光源と前記不織布との間に形成され、汚染された流体が進行されて光触媒反応によって浄化作用が行われる反応流路が形成されることを特徴とする。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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