Wasserhaltige Antitranspirant-Zusammensetzungen mit verbesserter Rückstandsmaskierung

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专利权人:

Henkel AG & Co. KGaA

发明人:

Bernhard Banowski,Nadine Buse,Imme Breuer

申请号：

DE102010063250

公开号：

DE102010063250A1

申请日:

2010.12.16

申请国别(地区):

DE

年份:

2012

代理人:

摘要：

Gegenstand der vorliegenden Anmeldung sind Antitranspirant-Zusammensetzungen, die mindestens einen Antitranspirant-Wirkstoff, mindestens 5 Gew.-% freies Wasser und 0,5–15 Gew.-% 1,4-Dimethylolcyclohexan enthalten.The subject matter of the present application are - antiperspirant compositions comprising at least an antiperspirant, - of active compound, at least 5 w -% free of water and 0,5 – 15 w -% 1,4 - dimethylolcyclohexane contain.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/