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METHOD FOR ELIMINATING MICROORGANISMS PRESENT IN AND/OR AT THE SURFACE OF A MATERIAL TO BE DECONTAMINATED
专利权人:
INSTITUT NATIONAL SUPERIEUR DES SCIENCES AGRONOMIQUES DE L'ALIMENTATION ET DE L'ENVIRONNEMENT (AGROSUP DIJON);INSTITUT NATIONAL SUPERIEUR DES SCIENCES AGRONOMIQUES DE L'ALIMENTATION ET DE L'ENVIRONNEM;UNIVERSITE DE BOURGOGNE
发明人:
BENEY, Laurent,CAYOT, Philippe,GRANGETEAU, Cédric,DUPONT, Sébastien
申请号:
EPEP2019/067964
公开号:
WO2020/020595A1
申请日:
2019.07.04
申请国别(地区):
EP
年份:
2020
代理人:
摘要:
The present invention concerns a method for eliminating microorganisms present in and/or at the surface of a material to be decontaminated comprising a step of irradiating said material to be decontaminated with radiation consisting of at least two light beams α1 and α2 directed onto said material, the two light beams α1 and α2 respectively having a wavelength λ1 and λ2 of between 380 and 420 nm.La présente invention concerne un procédé d'élimination de microorganismes présents dans et/ou à la surface d'un matériau à décontaminer comprenant une étape d'irradiation dudit matériau à décontaminer par un rayonnement constitué d'au moins deux faisceaux lumineux α1 et α2 dirigés sur ledit matériau, les deux faisceaux lumineux α1 et α2 ayant respectivement une longueur d'onde λ1 et λ2 comprise entre 380 et 420 nm.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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