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ARRANGEMENT FOR UNAFFECTED MATERIAL ANALYSIS
专利权人:
发明人:
申请号:
EP08835602.7
公开号:
EP2201364B1
申请日:
2008.09.11
申请国别(地区):
EP
年份:
2016
代理人:
摘要:
This invention concerns a method for the unaffected material analyse for detection and analysis of at least one material deviation in a material 2. The method is characterised by the detection of a region 1 with a difference in hardness in the material 2 through the use of a tactile sensor 4 that is placed in contact with the material, illumination of the detected area with chromatographic light A in order to obtain reflected light B in the form of a light spectrum, and analysis of the obtained light spectrum in order to obtain information concerning the physical and chemical molecular structure of the material. The invention concerns also an arrangement.Cette invention porte sur un procédé pour lanalyse sans effet sur le matériau pour la détection et lanalyse dau moins un écart de matériau dans un matériau 2. Le procédé est caractérisé par la détection dune région 1 avec une différence de dureté dans le matériau 2 par lutilisation dun détecteur tactile 4 qui est placé en contact avec le matériau, léclairage de la zone détectée par une lumière chromatographique A afin dobtenir une lumière réfléchie B sous la forme dun spectre lumineux, et lanalyse du spectre lumineux obtenu afin dobtenir des informations concernant la structure moléculaire physique et chimique du matériau. Linvention porte également sur un dispositif.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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