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ケイ素含有三元金属間化合物からハロシランを生成する方法
- 专利权人:
- ダウ コーニング コーポレーションＤＯＷ ＣＯＲＮＩＮＧ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ
- 发明人:
- ディミトリス・カツォリウス,ジョン・ロバーツ
- 申请号：
- JP20170531704
- 公开号：
- JP2018501231(A)
- 申请日:
- 2015.11.06
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- ハロシランを含む反応生成物、を調製する方法であって、不飽和ヒドロカルビルハロゲン化物と三元金属間化合物とを３００℃〜７００℃の温度で接触させて、反応生成物を形成すること、を含む、方法。上記の三元金属間化合物は、銅、ケイ素及び遷移金属を含む。上記の反応生成物におけるハロシランは、式Ｒ１ｍＲ２ｎＨｏＳｉＸ（４−ｍ−ｎ−ｏ）＞（式中、各Ｒ１は、独立して、飽和一価ヒドロカルビル基であり、各Ｒ２は、独立して、不飽和一価ヒドロカルビル基であり、各Ｘは、独立して、ハロゲン原子であり、下付き文字ｍは、１、２又は３であり、下付き文字ｎは、０、１又は２であり、下付き文字ｏは、０、１又は２であり、量（ｍ＋ｎ＋ｏ）は、１、２又は３である。）を有する。不飽和ヒドロカルビルハロゲン化物における不飽和ヒ
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
