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還元装置、金属化合物の還元方法、およびマグネシウム金属の製造方法
专利权人:
株式会社ニコン
发明人:
水谷 公一,丹羽 達雄,槙 裕司,倉島 高広
申请号:
JP20150200568
公开号:
JP2017071837(A)
申请日:
2015.10.08
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】加熱還元反応による金属の生産を効率よく行うこと。【解決手段】還元装置は、金属化合物を還元する還元部55と、金属化合物を還元部55へ移送する第1移送部50Aと、還元部55から還元後の残留物を移送する第2移送部50Bと、を含む金属化合物の還元装置であって、第1移送部50Aおよび第2移送部50Bは、両者の間で熱交換するように配置される。【選択図】図5
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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