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Photosensitive resin composition and uses thereof
专利权人:
发明人:
Yu-Jie Tsai,Ming-Ju Wu
申请号:
US13780362
公开号:
US08722755B2
申请日:
2013.02.28
申请国别(地区):
US
年份:
2014
代理人:
摘要:
The invention relates to a photosensitive resin composition, and an overcoat and/or spacer for a liquid crystal display component formed thereby has good heat-resistant transmittance, good chemical resistance and good elastic recovery rate. The invention also provides a method for forming a thin film on a substrate, a thin film on a substrate and a liquid crystal display component.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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