코지산 유도체 제조 방법

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专利权人:

发明人:

노호식,백흥수,우병영,김연준,신송석,박영호

申请号：

KR1020110089286

公开号：

KR1018537180000B1

申请日:

2011.09.02

申请国别(地区):

KR

年份:

2018

代理人:

摘要：

The present invention relates to a halogenated koji acid in which a hydroxy group of a hydroxymethyl group at 2-position of kojic acid is substituted with a halogen element in the presence of an acid And reacting the benzoic acid salt or the cinnamic acid salt to produce a kojic acid derivative.본 발명은 산(acid) 존재 하에서, 코지산 2 위치의 하이드록시 메틸기의 하이드록시기를 할로겐 원소로 치환한 할로겐화 코지산 및 벤조산염 또는 신남산염을 반응시키는 단계를 포함하는 코지산 유도체 제조 방법을 개시한다.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/