粒子束照射系统、粒子束照射方法、照射计划程序、照射计划装置、电磁场生成装置以及照射装置
- 专利权人:
- 国立研究开发法人量子科学技术研究开发机构
- 发明人:
- 野田耕司,稻庭拓,岩田佳之
- 申请号：
- CN201980040738.1
- 公开号：
- CN112334186A
- 申请日:
- 2019.06.17
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明提供粒子束治疗装置、粒子束治疗系统、照射计划装置以及粒子束照射方法。在粒子束治疗系统(1)中，磁场生成装置(9)在被检测体的靶附近生成影响粒子束的磁场的同时通过加速器(4)对从离子源(2)取出的粒子束进行加速，通过射束输送系统(5)搬送，并从照射装置(6)照射。在粒子束的照射中，照射计划装置(20)制作将磁场的影响加进去的粒子束的照射计划，并根据该照射计划照射粒子束。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
