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粒子束治疗系统、粒子束治疗方法以及计算机程序
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 小野大辅,伊藤友纪
- 申请号：
- CN202010013645.4
- 公开号：
- CN111617391A
- 申请日:
- 2020.01.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及粒子束治疗系统、粒子束治疗方法以及计算机程序。本发明能够切实地验证基于所选择的照射方式的粒子束的照射。粒子束治疗系统(100)具有：对粒子束加速的带电粒子射束产生装置(200)、向目标照射由带电粒子射束产生装置(200)加速的粒子束的照射装置(500)、控制带电粒子射束产生装置(200)以及照射装置(500)的控制装置(600)，控制装置(600)控制带电粒子射束产生装置(200)以及照射装置(500)，以便通过切换至少2种不同的照射方式向目标照射粒子束，进而，在切换照射方式后，根据所切换的照射方式并通过带电粒子射束产生装置(200)以及照射装置(500)试验性地照射粒子束并验证该粒子束。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
