一种化学机械研磨浆料组成
- 专利权人:
- 联华电子股份有限公司
- 发明人:
- 胡绍中,蔡腾群,许嘉麟
- 申请号：
- CN02131650.3
- 公开号：
- CN1410501A
- 申请日:
- 2002.09.12
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2003
- 代理人:
- 刘朝华
- 摘要：
- 一种化学机械研磨浆料组成。包含有一研磨粒成分金属氧化物、预定浓度的溶解态臭氧及添加剂，浆料组成的pH值介于1－10之间。通过臭氧作为CMP研磨浆料的氧化剂，具有较佳的氧化力，且可避免传统氧化剂易污染芯片表面或改变浆料pH值，具有较佳的研磨效果。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
