一种降低雷公藤多苷中有机溶剂残留的方法

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专利权人:

浙江得恩德制药有限公司

发明人:

吕文辉,刘法千,鲍立曾

申请号：

CN201310604221.5

公开号：

CN103610727B

申请日:

2013.11.26

申请国别(地区):

CN

年份:

2015

代理人:

摘要：

本发明涉及一种降低雷公藤多苷中有机溶剂残留的方法。雷公藤多苷生产工艺中，均须采用有机溶剂（主要是乙醇、氯仿）进行提取、萃取、层析等，目前存在雷公藤多苷中有机溶剂残留指标不稳定的问题。本发明将雷公藤多苷半成品用无水乙醇溶解，并充分搅拌使溶解均匀；将得到的雷公藤多苷乙醇液浓缩，回收乙醇后，减压抽干得粉末状干品；然后采用温水沉淀结合低温真空干燥的方法，得到雷公藤多苷成品。本发明可有效降低雷公藤多苷中的有机溶剂残留，质量稳定。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/