カルボキシメチル基含有修飾ヒアルロン酸および/またはその塩、ならびにこれを含む化粧料、食品組成物および医薬組成物

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专利权人:

キユーピー株式会社

发明人:

藤川 俊一,阿部 友紀奈,朝岡 和則,吉田 拓史

申请号：

JP2015109000

公开号：

JP6377020B2

申请日:

2015.05.28

申请国别(地区):

JP

年份:

2018

代理人:

摘要：

A method of producing a carboxymethyl-group-containing modified hyaluronic acid and/or a salt thereof includes a step of subjecting, in a water-containing solvent having a temperature of 30°C or less, a dissolved raw material hyaluronic acid and/or a salt thereof to a reaction with a haloacetic acid and/or a salt thereof, the water-containing solvent including water or a liquid mixture of a water-soluble organic solvent and water, a ratio of the water-soluble organic solvent in the liquid mixture being 60 v/v% or less.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/