瘢痕形成を軽減する医薬組成物及び方法
- 专利权人:
- ワン、イウェンＷＡＮＧ， Ｙｉ−Ｗｅｎ;ダイ、ニアンチーＤＡＩ， Ｎｉａｎｎ−Ｔｚｙｙ
- 发明人:
- ワン、イウェン,ダイ、ニアンチー
- 申请号：
- JP20160574313
- 公开号：
- JP2017513922(A)
- 申请日:
- 2014.03.11
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本願明細書は、瘢痕形成の軽減を必要とする対象における瘢痕形成を軽減するための医薬組成物を開示する。上記医薬組成物は、3つの核酸及び医薬的に許容可能なキャリアの混合物を含む。本願明細書は、瘢痕形成の軽減を必要とする対象における瘢痕形成を軽減する方法も開示する。【選択図】図１
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
